インコネル625
原子力および海洋用途に最適
材料とプロセス能力
Inconel® 625 は固溶強化されたニッケル基超合金です。特に高温での優れた引張特性、クリープ特性、および破断特性を備えていることが特徴です。 IN625 は、さまざまな腐食環境において優れた耐食性を備えています。 Velo3D インテリジェントな積層造形ソリューションを使用すると、企業は設計や品質を損なうことなく必要な部品を構築できるようになり、その結果、従来の鋳造技術や他の積層造形法よりも高性能の複雑な部品が得られます。
一般的なプロセス
IN625 は、その強度に加えて、極限環境における優れた耐疲労性、耐クリープ性、耐破断性を特徴としています。 IN625 は、サブトラクティブ製造技術を使用して成形および機械加工するのが困難です。このデータシートは、Velo3D で製造された場合にこの合金の予想される機械的特性と特性を指定します。 Sapphire システム。 すべてのデータは、Velo3D が承認した粉末である Praxair Tru-Form 50-625 を使用して、Velo2D 標準の 3 μm 層厚パラメーターを使用して構築されたパーツに基づいています。 IN625 から構築された部品 Sapphire システムは、他の方法で製造されたものと同様に熱処理できます。
| 密度、g/cc (ポンド/立方インチ) | 8.19（0.296） |
| 相対密度、パーセント | 99.9+ |
| 表面仕上げ1、Sa、μm（μin） | <15 (590) |
室温での機械的性質
| 引張特性2 | 究極の引張力 強度、MPa (ksi) | 利回り (0.2% オフセット)、 MPa（ksi） | 破断時の伸び、 パーセント | ||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| プロセスレシピ | TBR (cc/h)3 | 都道府県 | サンプルサイズ7 | 平均 | 最小値 | 平均 | 最小値 | 平均 | 最小値 |
| 500W/50μm | 28 | 印刷どおり | 8 | 945（137） | 940（136） | 644（93） | 640（93） | 42.7 | 41.5 |
| 溶体化アニール 14 | 26 | 906（131） | 895（130） | 545（79） | 535（78） | 48.1 | 44 | ||
| 1kW/50μm | 45 | 印刷されたままの状態 | 30 | 875（127） | 870（126） | 576（84） | 560（81） | 41.7 | 40 |
| 溶体化アニール 25 | 30 | 837（121） | 835（121） | 379（54） | 375（54） | 55.3 | 52.5 | ||
| HIP6 | 30 | 831（121） | 830（120） | 381（55） | 378（55） | 56.2 | 53 | ||
| 硬度、HRB | ||||
|---|---|---|---|---|
| プロセスレシピ | 都道府県 | サンプルサイズ7 | 平均 | 最小値 |
| 1kW/50μm | 印刷されたままの状態 | 4 | 96 | 95 |
| 溶体化アニール 25 | 4 | 88 | 87 | |
| HIP6 | 4 | 88 | 87 | |
| 1. 水平からの角度が 25° を超える場合、実際の仕上げは、選択した方向とプロセスによって異なります。 2. 機械サンプルおよびテスト サンプルは垂直方向で印刷され、ASTM E8 に従って機械加工されます (円形試験片 #3) 3. TBR: 理論的造形率 (TBR) は次のとおりです。スキャン速度 x ハッチ間隔 x 層の厚さとしてバルク コアのプロセス条件から計算されるレーザーごとのビルド レート。この値は単一のレーザーのみを表し、さまざまな材料やレシピ間での比較を目的として報告されていますが、形状やシステムの特性 (つまり、レーザーの数、再コーティング時間など) に依存する真の造形速度には対応していません 4。 900 °C (1650 °F) で 1 時間応力除去。 1010 °C (1850 °F) で 1 時間、溶体化処理を行います。 5. AMS7000 による溶体化アニール: AMS2774 に従って、不活性または真空雰囲気下、1177 °C±14°C (2150°F±25°F) で 60±10 分間、製品溶液をアニールします。空冷と同等以上の速度で 649°C (1200°F) まで冷却し、649°C (1200°F) から任意の速度で冷却します。 6. AMS7000 による熱間静水圧プレス: 最低 14,500 psi (100 MPa) で不活性雰囲気下、1149 °C ～ 1204 °C (2100 °F ～ 2200 °F) 以内で HIP、選択した温度で ±14 °C (±25 °C) 以内に保持°F) 3 ～ 5 時間。オートクレーブ内の不活性雰囲気下で 649 °C (1200 °F) 未満まで冷却します。とにかく 649 °C (1200 °F) から冷却します。 7. 単一のデータから収集されたデータ Sapphire プリンタ。 | ||||
認定粉末サプライヤー
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